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日本techvision 小型晶圆掩膜简易清洗装置

描述：日本techvision 小型晶圆掩膜简易清洗装置
TW-30 是日本 TECHVISION 推出的桌面紧凑型小型掩膜晶圆湿法清洗装置，面向半导体研发实验室、高校微电子试样小批量洁净处理场景打造，解决大型量产清洗设备占地庞大、药液消耗量高、仅适配大尺寸基板、喷淋不均易残留微粒、过滤循环效果差、运行噪音干扰无尘实验室等行业痛点。

  • 产品型号：TW-30
  • 厂商性质：代理商
  • 更新时间：2026-07-02
  • 访问量：78
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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

日本techvision 小型晶圆掩膜简易清洗装置

基础核心参数

  1. 适配基板尺寸：2 英寸、4 英寸标准小尺寸掩膜 / 玻璃晶圆

  2. 喷淋系统：纯水喷淋、微量药液喷淋两段独立管路

  3. 过滤模组：三级递进式循环过滤结构，可拦截微米级杂质颗粒

  4. 药液循环模式：全密闭闭环循环，减少药液更换频次

  5. 整机外形尺寸：320 (W)×380 (D)×420 (H) mm 桌面一体式机身

  6. 整机重量：约 18kg 轻量化密闭机身

  7. 运行噪音：空载运行低于 48dB，适配无尘静音实验室

  8. 喷淋压力：两段管路压力独立可调，适配不同洁净需求

  9. 废液收集：内置一体式废液回收仓，无尘间无废液飞溅

  10. 供电规格：AC100V 50/60Hz 低功耗持续运行

  11. 运行环境：Class10000 无尘室内常温工况

  12. 适配清洗对象：光刻掩膜、石英玻璃基板、微电子研发试样

日本techvision 小型晶圆掩膜简易清洗装置

核心功能特点

  1. 纯水、药液两段独立喷淋管路，基板分层洁净剥离杂质残留

  2. 三级递进循环过滤模组，循环药液持续保持洁净无二次污染

  3. 全密闭药液闭环循环结构，大幅降低清洗药液耗材消耗

  4. 两段喷淋压力独立可调，轻污染、重污染基板切换对应清洗强度

  5. 一体式内置废液回收仓，无尘实验室操作无废液飞溅污染台面

  6. 桌面紧凑型密闭机身，小型无尘操作台可直接摆放安置

  7. 48dB 低噪循环运行，研发无尘实验室无噪音干扰作业

  8. 模块化可拆卸喷淋管路，日常清洁维护拆装操作简便

适用场景

  1. 高校微电子实验室小尺寸光刻掩膜研发试样湿法清洗

  2. 半导体研发机构新品基板微粒、光刻残留洁净处理

  3. 石英玻璃光学掩膜表面油污、微小颗粒剥离清洗工序

  4. 小批量研发试样分段喷淋差异化洁净处理制程

  5. 无尘实验室桌面小型基板常态化洁净预处理工序

  6. 第三方微电子光刻工艺公证计量验收配套清洗工装

  7. 材料、半导体专业教学实训基板湿法清洗演示设备

  8. 光学元件研发小尺寸玻璃基板洁净预处理工序

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