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产品分类 / PRODUCT
更新时间：2026-06-10 
浏览次数：102这是日本本多电子半导体级高频兆声波清洗机，核心是单晶石英振动体，1MHz 高频、低损伤、超高洁净度，专门给晶圆 / 精密器件做微污染清洗，原装全新，半导体产线常用。
型号：W-357-1MQG-SKC（单晶石英振动）
振荡频率：1MHz（高频兆声波）
额定输出：12W（功率可调）
振荡模式：单频振荡，频率稳定度＜0.1%
电源：AC100–240V，50/60Hz，300VA，全球通用
尺寸：180×250×100mm（不含突起）
重量：约 2.2kg，小巧好放
振动体：单晶石英，接液仅石英玻璃，无橡胶溶出
冷却：氮气冷却振子，连续工作不飘频、不升温
适配液体：各类半导体清洗药液（酸 / 碱 / 溶剂均可）
1MHz 属于兆声波级别，比普通 40kHz 超声波细得多，能洗掉0.1μm 级微颗粒（普通机搞不定）。
单晶石英振动体，能量传导均匀、衰减小，整片晶圆清洗一致性好，边缘 / 凹槽也能洗到。
只有石英玻璃碰药液，无橡胶垫片 / 密封圈，杜绝溶出污染，半导体高洁净场景刚需。
高频 + 软空化，冲击力极小，3nm 制程、超薄晶圆、微小线路都不会洗崩、洗裂。
对比传统流水 / 浸泡清洗，化学品用量省很多，环保又降成本。
氮气冷却振子，长时间工作频率不飘、温度不升，良率稳定。
数字定功率控制，电压 / 温度波动时输出不变，清洗效果一致。
面板简洁，功率 / 频率一键设，开机自检、故障报警，新手也能上手。
带 RS-422A 接口，可连 PLC / 电脑，数据实时监控、可导出，符合半导体产线追溯要求。
半导体：硅晶圆、蓝宝石衬底、CMP 后残留、光刻胶 / 聚合物去除、栅电极清洗。
精密光学：镜头、滤光片、棱镜、镀膜元件（微颗粒 / 指纹清洗）。
电子：MEMS、传感器、微型线路板、引线框架（低损伤除污）。
材料：超薄玻璃、陶瓷薄片、金属箔（无腐蚀、无损伤清洗）。
石英振动体：每次用完用超纯水冲净，软布轻擦，避免硬物刮花。
冷却系统：定期检查氮气压力，保证冷却效果。
校准：建议每半年做一次频率 / 功率校准，稳定输出。
存放：干燥无尘环境，长期不用断电、盖防尘罩。
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