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日本techvision 抽屉式 UV 臭氧清洗装置

描述：日本techvision 抽屉式 UV 臭氧清洗装置
整机搭载高密度网格状低压汞双波段 UV 光源，308×308mm 超大均匀照射区域；推拉抽屉式载台，可同步放置多片基板批量处理；依靠 185/254nm 双波段紫外原位生成臭氧，常温常压干式氧化分解油污、光刻残留、碳氢有机杂质，全程不接触化学试剂、无基板划伤。

  • 产品型号：UV-312
  • 厂商性质：代理商
  • 更新时间：2026-07-02
  • 访问量：77
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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

日本techvision 抽屉式 UV 臭氧清洗装置

基础核心参数

  1. 有效紫外照射幅面：308mm × 308mm 大面积全域照射区

  2. 光源配置：高密度网格低压汞灯，同步输出 185nm、254nm 双波段紫外

  3. 设备进出料结构：推拉抽屉式金属载台，可一次性放置多片基板

  4. 运行工况：常温常压干式处理，无需真空、无需清洗药液

  5. 整机外部尺寸：505 (W)×616 (D)×320 (H) mm 一体化柜式机身

  6. 整机自重：41kg 紧凑型柜式造型，无尘车间台面可直接摆放

  7. 供电规格：AC100V 10A 50/60Hz，支持定制宽电压版本

  8. 腔体结构：全密闭臭氧循环腔体，配套尾气简易分解结构

  9. 适配基板：晶圆、石英掩膜、光学玻璃、树脂新材料基板通用

  10. 清洗原理：紫外臭氧协同光氧化分解，剥离纳米级有机污染物

  11. 改性效果：基板照射后表面亲水，接触角显著降低

  12. 适用环境：Class1000/10000 无尘室内常温工况

日本techvision 抽屉式 UV 臭氧清洗装置

核心功能特点

  1. 308×308mm 超大照射幅面，大面积基板整片均匀紫外辐照无明暗差

  2. 网格双波段低压汞灯，185nm 产臭氧、254nm 裂解有机物双重协同清洗

  3. 推拉抽屉载台设计，多片试样同步放置，批量处理提升实验效率

  4. 常温常压干式工艺，无化学溶剂、无基板微观划伤，无废液产生

  5. 全密闭臭氧管控腔体，臭氧不外溢，适配无尘实验室洁净环境

  6. 光源全域均匀照射，基板边角与中心清洗改性效果一致

  7. 同步实现除污 + 表面亲水改性，镀膜、粘接前处理一步完成

  8. 一体化柜式紧凑型机身，无尘车间操作台无需占用大面积空间

适用场景

  1. 半导体晶圆、光刻石英掩膜表面光刻胶残留、有机微粒干式洁净处理

  2. 光学玻璃、光学镜片镀膜前 UV 臭氧活化，提升膜层结合附着力

  3. 高分子树脂、新材料基板表面亲水改性，适配粘接印刷工序预处理

  4. 高校微电子、光学实验室大面积试样批量干式清洗对比实验

  5. FPD 面板、大尺寸玻璃基板微小油污、脱模剂氧化剥离工序

  6. 第三方半导体、光学元件超洁净工艺公证计量验收配套工装

  7. 精密元器件封装前基板表面活化预处理标准化制程

  8. 磁记录介质、薄膜材料纳米级污染物去除量产配套设备

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