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日本Kenix 压力梯度溅射设备

描述：日本Kenix 压力梯度溅射设备
本产品为日本凯尼克斯 PGS model 压力梯度式溅射装置，属于真空薄膜沉积设备，依靠压力梯度溅射工艺完成各类试样表面薄膜镀制。设备在真空腔体内部构建梯度气压环境，实现靶材物质向工件表面迁移沉积，在样品表面生成均匀薄膜，多用于材料开发、小批量试样镀膜作业。整套设备包含真空腔体、靶材单元、真空获取模块、电气控制组件。

  • 产品型号：PGS model
  • 厂商性质：代理商
  • 更新时间：2026-08-08
  • 访问量：14
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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

日本Kenix 压力梯度溅射设备

基础核心参数

  1. 型号：PGS model

  2. 设备类型：压力梯度式溅射装置

  3. 品牌： Kenix

  4. 作业对象：各类试样表面金属、介质薄膜沉积，材料研发镀膜处理

  5. 工作方式：真空环境压力梯度溅射，靶材溅射成膜

  6. 输出形式：工件表面薄膜沉积，可对接外部工艺控制信号

  7. 安装形式：整机落地式，放置于实验室或者工艺车间工位

  8. 工作环境：车间工位，做好接地，保障真空系统散热条件

  9. 可选配置：各类靶材、样品工装夹具、真空配件另行选配

  10. 标配配件：溅射装置本体、操作手册；靶材、工装另行选配

日本Kenix 压力梯度溅射设备

核心功能特点

  1. 压力梯度溅射工艺，可以实现多种材质靶材的薄膜沉积作业

  2. 腔体结构适配试样研发使用，适合多组别样品对比镀膜试验

  3. 膜层均匀性良好，满足材料研发对薄膜试样的制备要求

  4. 工艺参数可调，能够根据不同试样调整溅射工艺条件

  5. 整机操作逻辑清晰，研发人员可快速完成工艺调试

  6. 适配间断式试验工况，适合多组试样循环制备处理

  7. 靶材、易损真空配件可单独更换，降低整机更换成本

适用场景

  1. 新材料研发，各类基材表面金属、介质薄膜试样制备

  2. 半导体实验室，小试样薄膜沉积，开展材料性能相关试验

  3. 光学材料开发，样品表面功能薄膜镀制处理

  4. 高校科研工位，科研样品真空溅射镀膜制备

  5. 检测分析配套，为样品制备提供薄膜沉积工艺条件

  6. 原有溅射镀膜装置老化失效，现场备件替换升级

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