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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION日本imt 半自动试样回转研磨装置
核心参数
产品型号:SP‑L1
产品类型:试样回转研磨机头(适配 IM‑P2 磨抛主机)
回转转速:0‑200rpm 无级可调
试样工位:1‑3 个试样可自由选用
加压方式:弹簧独立加压,单样压力 10‑40N 可调
标配部件:流量可调润滑器,用于湿法研磨
夹具规格:支持 φ25mm、φ30mm、φ40mm 试样夹具,夹具为选配
驱动电机:75W,50/60Hz 通用
安装形式:加装于 IM‑P2 主机上方组合使用
工作环境:0‑45℃,湿度 20‑85% RH,无凝露
日本imt 半自动试样回转研磨装置
功能特点
转速独立可调,可与研磨盘实现同向同步运转,保障研磨平面平行度。
每个试样独立弹簧加压,各样品压力互不干扰。
最多支持三件试样同时加工,提升制样效率。
标配流量可调润滑组件,适配各类湿法研磨抛光工序。
到达研磨目标的试样可单独取出,其余样品继续加工。
直接加装在对应磨抛主机上,改造实现半自动研磨。
有效抑制试样出现斜面、铅笔状等制样缺陷。
适配粗磨、细磨、抛光全流程金相制样工艺。
控制操作简洁,可快速完成转速与压力设置。10. 模块化配件,不改动主机本体即可完成系统升级。
适用场景
材料实验室,金属金相试样半自动研磨抛光制备。
电子材料制样,通孔、线路结构研磨至目标观测层。
制造企业质检部门,批量金相试样前处理作业。
热处理实验室,各类镶嵌试样平行研磨加工。
科研院校材料实验室,课题实验试样制备。
第三方检测机构,多批次样品同步制样。
失效分析,异形、镶嵌试样高精度磨抛。
新材料研发,小批量试样一致性研磨抛光试验。
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