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2026-07-28
产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION日本imt 气压式单样品独立加压磨抛机
核心参数
产品型号：RANA‑3
产品类型：独立装载全自动金相磨抛机
磨抛圆盘：Φ250mm，支持铝盘、磁性圆盘，圆盘为选配
磨盘转速：50‑400rpm，正反转可切换，400W 减速电机
样品支架转速：65‑200rpm，正反转可切换，120W 无刷电机
试样数量：1‑6 个；Φ50mm 试样最多放置 3 个
加压方式：气压独立加压，单样品压力 10‑50N 可调，支持压力渐变设置
程序功能：防水触控面板，可存储 16 组工艺，单程序支持 ABC 三段工序运行，定时停机、急停保护
润滑系统：标配流量可调润滑器，配套给排水管路阀门
气源条件：0.5‑0.7MPa 压缩空气供给
供电：单相 100V /200‑220V
工作环境：0‑45℃，湿度 20‑85% RH，无凝露
日本imt 气压式单样品独立加压磨抛机
功能特点
独立装载气压加压，每个试样压力单独设置，互不干扰。
磨盘与样品支架转速独立可调，支持同向同速运转，抑制试样倾斜、铅笔状缺陷，保障研磨平行度。
支持压力渐变，研磨过程自动增压、减压，适配多种材料制样工艺。
可存储多套磨抛工艺配方，直接调用，降低人员操作差异。
单程序内设置三段不同工艺参数，粗磨‑细磨‑抛光自动连续运行。
磨盘、支架均可正反转，适配不同研磨工艺习惯。
防水触控操作面板，搭配急停按钮，操作安全便捷。
标配可调流量润滑单元，满足各类湿法研磨抛光工况。
支持多种规格夹具，可定制特殊异形试样治具。10. 全自动运行，降低人工值守，适合批量试样稳定制样。
适用场景
材料实验室，各类金属金相试样全自动研磨抛光制备。
机械制造、零部件质检实验室，批量金相试样前处理。
热处理行业，镶嵌试样高精度平行磨抛作业。
科研院校材料实验室，课题实验自动化制样。
第三方检测机构，大批量样品稳定制样工作。
失效分析实验室，对平行度有高要求的试样制备。
硬质合金、电子材料，易出现边缘塌陷样品磨抛。
新材料研发，工艺参数固化，重复对比试验制样。
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