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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATIONTechnomate 半导体 CMP 浆料供给装置Technomate 半导体 CMP 浆料供给装置
整机为立式工业机柜柜体，白色无尘车间涂装；正面配有触控人机交互显示屏、急停按钮、状态指示灯；柜体设置多扇可视透明观察门，内部可看到隔膜泵、波纹管输送泵、阻尼器、搅拌电机、换热温控模块、pH 电极、各类 PFA 管路阀门。P85 型号本体尺寸 W1250×D580×H1400mm，整机重量约 500kg，内置 20L 浆料罐、5L 药剂罐；P108 为多单元组合柜（SSU‑A /SSU‑B 双单元），更大储罐容积 27L，支持更高输出流量。底部设备地脚可调节水平；管路全部采用高纯耐半导体化学品材质，阀门、泵组模块化布局，检修拆装方便。
设备集成原液移送、自动稀释、温控、pH 控制、搅拌循环、稳压输出整套功能。内置搅拌 + 外循环，持续扰动浆料，抑制二氧化硅、氧化铝磨料沉降分层。P85 型号：稀释倍率 10/15/20 倍；pH 控制 pH10‑11±0.2；温度控制 20‑40℃±0.5℃；输出流量 1.5L/min，输出压力 0.3MPatechnomate...。P108 型号：输出流量 3‑4L/min，最大供给压力 0.2MPa，配置特氟龙隔膜原液泵、波纹管输送泵 + 压力阻尼器，减少输送脉动，保证送往 CMP 机台流量压力稳定technomate...。全部工艺参数闭环自动控制，触控屏幕设定参数，实时显示温度、pH、流量、罐液位；具备液位低报警、压力异常、温度异常联锁保护。可对接上位机，输出设备状态信号。支持客户定制储罐容量、稀释倍率、输出流量、多机台分配供给方案，兼容胶体二氧化硅等主流 CMP 浆料。
柜体外壳防静电烤漆钢板；与浆料接触部件全部特氟龙（PTFE/PFA）材质；输送泵隔膜特氟龙；搅拌桨 PFA；储罐内衬耐蚀树脂；阀门阀芯高纯 PFA；pH 电极半导体耐污染型；密封件耐化学氟橡胶；地脚碳钢喷涂防腐，适配半导体 Fab 车间。
表格
| 项目 | P85 连续式 | P108 多单元型 |
|---|---|---|
| 外形尺寸 | W1250×D580×H1400mm | 定制机柜尺寸 |
| 整机重量 | 500kg | 依配置变化 |
| 内置浆料罐 | 20L | 27L |
| 药剂罐 | 5L | 可扩展 |
| 稀释倍率 | 10/15/20 倍 | 客户定制 |
| 温控范围 | 20‑40℃ ±0.5℃ | 20‑40℃可定制 |
| pH 控制 | pH10‑11 ±0.2 | 可定制区间 |
| 输出流量 | 1.5L/min | 3‑4L/min |
| 输出压力 | 0.3MPa Max | 0.2MPa Max |
| 核心泵 | 特氟龙隔膜泵、波纹管泵 | 特氟龙隔膜泵 + 波纹管泵 |
P85 连续式浆料供给装置；P108 多单元浆料供给装置；P112 药液供给装置；PU 系列增压泵单元。
半导体 CMP 化学机械抛光、晶圆背面研磨、抛光磨削工艺，完成 CMP 抛光浆料原液的自动稀释、温度 pH 调节、防沉降循环搅拌，稳定流量压力输送到抛光机台；也可用于其它含固体颗粒研磨液供给。适用于半导体 Fab 量产产线，也可做中试研发定制版本，稳定浆料工况，减少人工配液带来的批次差异。
重型实木熏蒸木箱，柜体做防护覆膜；泵、电极、备件独立泡沫盒分装；大型设备分拆柜体模块运输。配套日文 + 中文操作说明书、P&ID 管路图、电气原理图、出厂检测报告。外包装标注重型半导体设备，防潮防震。
设备放置在半导体车间辅机间，调平地脚。接入工艺纯水、压缩空气、电源、浆料原液桶。完成管路连接，做压力检漏。在触控屏设置稀释倍数、目标温度、pH。启动自动模式，设备自动配液、搅拌循环。定期检查罐内液位；定期校准 pH 电极；产线停机执行管路冲洗程序，避免磨料沉积在泵、阀门、罐体内。定期检查隔膜泵、波纹管损耗情况，按时更换消耗件。异常报警时查阅屏幕故障代码，排查管路堵塞、气源不足、液位异常。
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