描述：mini-meg-100兆声波清洗机半导体微机电系统兆声波精密清洗设备，依靠高频声波作用剥离工件表面微颗粒，适合半导体、MEMS、光学元件的低损伤洁净处理。

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厂商性质：代理商
更新时间：2026-11-04
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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

mini-meg-100兆声波清洗机半导体微机电系统mini-meg-100兆声波清洗机半导体微机电系统

兆声波精密清洗设备，依靠高频声波作用剥离工件表面微颗粒，适合半导体、MEMS、光学元件的低损伤洁净处理。产品介绍：整机由兆声波换能模块、清洗槽、流体循环过滤单元、温控系统组成，相比常规超声波，冲击强度更柔和，减少精细结构损伤。产品性能：高频兆声清洗，去除亚微米级颗粒；清洗介质循环过滤；槽体温度可控；对光刻胶、薄膜、微细结构低损伤；适配湿法清洗工艺。用材：清洗槽高纯耐腐蚀材质；换能组件耐化学腐蚀；管路采用适配高纯药液材质。

参数项目	参数参考
清洗原理	兆声波空化扰动
适用工件	半导体晶圆、MEMS、光学零件
配套	循环过滤、温控
优势	低损伤微颗粒去除

型号：mini-meg-100用途：半导体制程清洗、微机电零件、光学镜片、科研样品颗粒污染物去除。包装：槽体做防刮保护，换能模块单独防震包装。使用说明：配置对应清洗药液，设置温度与清洗时长；定期更换滤芯；避免硬物磕碰槽体与换能面。售后服务：我司提供工艺方案参考，滤芯耗材供应，设备维护。

参数项目	参数参考
清洗原理	兆声波空化扰动
适用工件	半导体晶圆、MEMS、光学零件
配套	循环过滤、温控
优势	低损伤微颗粒去除

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描述：mini-meg-100兆声波清洗机半导体微机电系统兆声波精密清洗设备，依靠高频声波作用剥离工件表面微颗粒，适合半导体、MEMS、光学元件的低损伤洁净处理。

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