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TR15M日本technorise 精密试样平面研磨抛光机日本technorise 精密试样平面研磨抛光机该款台式精密研磨抛光设备，可完成粗磨、精磨、镜面抛光，也可开展化学机械抛光加工。适配玻璃、各类金属、陶瓷多种材质试样，设备磨盘更换便捷，可搭配金刚石磨料、抛光垫、研磨浆料，支持砝码式压力加载，多用于新材料研发、半导体小样片工艺验证，完成试样平面减薄、表面平坦化处理。

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更新日期
2026-08-11

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WP‑Ex 10 II德国wassermann 双转速台式抛光处理机器德国wassermann 双转速台式抛光处理机器本产品为德国 wassermann WP‑Ex 10 II 紧凑型抛光机，专为需要频繁抛光的实验室工况设计，搭载长寿命免维护鼠笼电机，支持长时间连续运转，不需要对电机做定期保养加油，适合每日高频次试样抛光作业。整机主体大量采用不锈钢材质，抗抛光粉尘腐蚀，腔体内部设置可整体拆卸橡胶抛光槽，抛光产生的碎屑、粉尘清理简单，拆装无需工具，减少工位清洁耗时。

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2026-08-10

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NR3060‑AQC日本NAKANISHI 机器人搭载去毛刺研磨电主轴日本NAKANISHI 机器人搭载去毛刺研磨电主轴本产品为日本 NAKANISHI 中西气动自动换刀高速主轴，需要搭配对应系列驱动控制器使用，依靠气压实现刀柄自动夹紧与释放，无需人工介入完成刀具切换作业。主轴本体采用硬化不锈钢壳体，回转精度优异，高转速输出，可适配打磨、去毛刺、倒角、微细铣削、抛光多道工序。整机外径小巧，重量适中，可直接安装在工业机械臂、协作机器人、专用自动化设备上。

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2026-08-06

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NF-300日本nanofactor 台式高精度平面研磨抛光机日本nanofactor 台式高精度平面研磨抛光机本设备为日本 NANOFACTOR NF-300 台式高精度平面研磨抛光机，面向晶圆、陶瓷、光学晶体、金属试样开展平面研磨与镜面抛光，通过变频主轴、闭环压力控制实现试样均匀去除，获得低粗糙度平整表面。搭载彩色操作面板，可编辑多段研磨工艺，支持转速、压力、时间分段运行。

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更新日期
2026-07-22

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ML-182SL日本丸井MARUTO 低速精密研磨抛光机日本丸井MARUTO 低速精密研磨抛光机本设备为日本 MARUTO 丸井ML-182SL低圆周速度精密研磨抛光机，专为软金属、解理易碎单晶、半导体晶圆等易划伤、易崩边试样开发，区别于常规高速研磨设备，采用 0~100rpm 超低速无级调速，大幅降低研磨应力，杜绝试样变形、崩角、划痕缺陷。

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更新日期
2026-07-17

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厂商性质
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