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  • WP‑Ex 10 II德国wassermann 双转速台式抛光处理机器
    WP‑Ex 10 II德国wassermann 双转速台式抛光处理机器 德国wassermann 双转速台式抛光处理机器 本产品为德国 wassermann WP‑Ex 10 II 紧凑型抛光机,专为需要频繁抛光的实验室工况设计,搭载长寿命免维护鼠笼电机,支持长时间连续运转,不需要对电机做定期保养加油,适合每日高频次试样抛光作业。整机主体大量采用不锈钢材质,抗抛光粉尘腐蚀,腔体内部设置可整体拆卸橡胶抛光槽,抛光产生的碎屑、粉尘清理简单,拆装无需工具,减少工位清洁耗时。
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    更新日期

    2026-08-10
    02

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  • NR3060‑AQC日本NAKANISHI 机器人搭载去毛刺研磨电主轴
    NR3060‑AQC日本NAKANISHI 机器人搭载去毛刺研磨电主轴 日本NAKANISHI 机器人搭载去毛刺研磨电主轴 本产品为日本 NAKANISHI 中西气动自动换刀高速主轴,需要搭配对应系列驱动控制器使用,依靠气压实现刀柄自动夹紧与释放,无需人工介入完成刀具切换作业。主轴本体采用硬化不锈钢壳体,回转精度优异,高转速输出,可适配打磨、去毛刺、倒角、微细铣削、抛光多道工序。整机外径小巧,重量适中,可直接安装在工业机械臂、协作机器人、专用自动化设备上。
    01

    更新日期

    2026-08-06
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  • NF-300日本nanofactor 台式高精度平面研磨抛光机
    NF-300日本nanofactor 台式高精度平面研磨抛光机 日本nanofactor 台式高精度平面研磨抛光机 本设备为日本 NANOFACTOR NF-300 台式高精度平面研磨抛光机,面向晶圆、陶瓷、光学晶体、金属试样开展平面研磨与镜面抛光,通过变频主轴、闭环压力控制实现试样均匀去除,获得低粗糙度平整表面。搭载彩色操作面板,可编辑多段研磨工艺,支持转速、压力、时间分段运行。
    01

    更新日期

    2026-07-22
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  • ML-182SL日本丸井MARUTO 低速精密研磨抛光机
    ML-182SL日本丸井MARUTO 低速精密研磨抛光机 日本丸井MARUTO 低速精密研磨抛光机 本设备为日本 MARUTO 丸井ML-182SL低圆周速度精密研磨抛光机,专为软金属、解理易碎单晶、半导体晶圆等易划伤、易崩边试样开发,区别于常规高速研磨设备,采用 0~100rpm 超低速无级调速,大幅降低研磨应力,杜绝试样变形、崩角、划痕缺陷。
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    更新日期

    2026-07-17
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  • IM-P2+SP-L1日本IMT 台式金相半自动试样研磨抛光机
    IM-P2+SP-L1日本IMT 台式金相半自动试样研磨抛光机 日本IMT 台式金相半自动试样研磨抛光机 本成套设备由日本 IMT 基础研磨主机 IM-P2 与半自动三工位研磨头 SP-L1 组合而成,专为金相、半导体切片试样制备打造,依靠研磨盘与试样夹具同向同步回转结构,从根源避免试样研磨倾斜、单边削薄铅笔状缺陷,保障研磨平面高平行度。IM-P2 单机可独立完成手工研磨作业,加装 SP-L1 研磨头升级全自动批量制样。
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    更新日期

    2026-07-16
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