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  • PC美国先进制程压力稳定控制器压力控制
    PC美国先进制程压力稳定控制器压力控制 美国先进制程压力稳定控制器压力控制 Pivotal Systems PC 是美国 Pivotal Systems 推出的基于成熟 GFC 技术的上下游压力控制器(Pressure Controller),专为半导体先进制程打造,可实现上下游压力的精准闭环控制,解决工艺腔室压力波动问题,是 CVD、刻蚀、ALD 等对压力稳定性要求场景的核心控制部件。
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    2026-04-28
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  • GFC-S+美国非热式位置控制常开式流量比控制器
    GFC-S+美国非热式位置控制常开式流量比控制器 美国非热式位置控制常开式流量比控制器 Pivotal Systems FRC 是美国 Pivotal Systems 推出的基于位置控制技术的常开式流量比控制器(Flow Ratio Controller),专为半导体先进制程中的多气体配比工艺设计,采用 4 通道集成方案,可实现多股气体的精准流量比例控制,是原子层沉积(ALD)、等离子体工艺等对气体配比要求场景的核心部件。
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  • GFC-T美国Pivotal Systems热式气体流量控制器
    GFC-T美国Pivotal Systems热式气体流量控制器 美国Pivotal Systems热式气体流量控制器 Pivotal Systems GFC-T 是美国 Pivotal Systems 推出的传统热式原理气体流量控制器(MFC),专为对成本敏感、工况稳定的工业场景设计,基于成熟的热传导测量技术,是半导体制造、工业制程中广泛应用的经典流量控制方案。
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  • GFC-X美国半导体专用无漂移MFC控制器
    GFC-X美国半导体专用无漂移MFC控制器 美国半导体专用无漂移MFC控制器 Pivotal Systems GFC-X 是美国 Pivotal Systems 推出的大流量款基于位置控制原理的高性能气体流量控制器(MFC),专为半导体制造等高流量、高精密工业场景设计,是 GFC-S 系列的扩展版本,流量最高可达 50,000 sccm,凭借无漂移、免校准、耐腐蚀、无堵塞等特性,成为先进制程中大流量工艺的核心流体控制部件。
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  • GFC-S美国Pivotal Systems高性能气体流量控制器
    GFC-S美国Pivotal Systems高性能气体流量控制器 美国Pivotal Systems高性能气体流量控制器 Pivotal Systems GFC-S 是美国 Pivotal Systems 推出的基于位置控制原理的高性能气体流量控制器(MFC),专为半导体制造等高精密工业场景设计,是传统热式质量流量控制器(MFC)的革命性替代方案。其流量覆盖 0.025 sccm 至 2000 sccm,凭借无漂移、免校准、耐腐蚀等特性,成为先进制程设备的核心流
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