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  • IM-301日本 NAKANISHI TBC 涂层气膜孔打磨套装
    IM-301日本 NAKANISHI TBC 涂层气膜孔打磨套装 日本 NAKANISHI TBC 涂层气膜孔打磨套装NAKANISHI 中西 ROTUS 高速气动打磨组,由 IM-301 气动马达 + AL-H1207F 气源处理套件组成,最高 30000rpm,轻量化手持,专用于航空发动机涡轮叶片 TBC 热障涂层气膜孔修孔、孔口涂层清理、重熔层去除,低发热、振动小,适配微小金刚石磨针精密研磨。
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    2026-10-28
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  • 日本 KRK 熊谷理机 2500-I 高浓圆盘磨浆机
    日本 KRK 熊谷理机 2500-I 高浓圆盘磨浆机 日本 KRK 熊谷理机 2500-I 高浓圆盘磨浆机日本 KRK(krk-kumagai 熊谷理机)No.2500-I 高浓度圆盘磨浆机,属于实验室小型盘磨,对标产线大磨结构,遵循 JIS、TAPPI、ISO 标准。螺旋进料,磨盘间隙可精细调节,间隙显示精度 0.01mm;标准转速 3000rpm,适合木片、浆料、植物纤维、化纤等的纤维化、分丝帚化试验。可模拟工厂制浆、高浓磨工艺,用于磨浆工艺
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    2026-10-27
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  • 日本SENLIGHTS HLR400内置UV涂料固化装置
    日本SENLIGHTS HLR400内置UV涂料固化装置 日本SENLIGHTS HLR400内置UV涂料固化装置日本 SENLIGHTS(SEN 日森)HLR400 小型内置 UV 硬化装置,400W 光源,分 F 聚焦扩散型、B 扩散型,可集成至流水线设备内部,用于各类 UV 涂料、地板涂料光固化。风冷散热,照射面可选配机械快门,反光镜优化紫外输出,适配连续输送产线。体积小巧、安装方式灵活,搭配 HB400 系列电源使用,固化速度稳定,适合涂装、板材
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    2026-10-27
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  • MAT-50VGA日本Matels半导体炉垂直布里奇曼晶体生长炉
    MAT-50VGA日本Matels半导体炉垂直布里奇曼晶体生长炉 日本Matels半导体炉垂直布里奇曼晶体生长炉日本 Matels(マテルズ)MAT-50VGA 立式布里奇曼炉,半导体晶体生长专用高精度高温炉,最高温度可达 1600℃,可在可控保护气氛下长晶。可形成陡峭温度梯度,升降温程序可编程,温区控制精度高,配备晶体下降提拉机构、气体流量控制单元、独立温控控制柜。适合化合物半导体、光学单晶材料研发与小批量试制,炉体密闭性好,可搭配惰性气体氛围,整套集成温控、
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    2026-10-27
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  • LT-02、LT-04、LT-06日本広築hirochiku LT系列精密低温热处理炉
    LT-02、LT-04、LT-06日本広築hirochiku LT系列精密低温热处理炉 日本広築hirochiku LT系列精密低温热处理炉日本広築 hirochiku LT 精密低温热处理炉,热风循环式箱型炉,最高使用温度 280℃,炉膛容积 0.2~1.8m³ 可选。采用铠装加热管,使用寿命长、检修便捷,炉内气流均匀,温度分布稳定。支持 PID 多段程序控温,适合金属去应力、低温回火、时效硬化、镀层烘烤等工艺,可选空气或者惰性保护气氛。整机结构扎实,操作简单,适合精密零部件、非铁
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    2026-10-27
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