描述：日本本多honda 流水式超声波清洗机。一整套包含数字恒定功率发振主机 + 标准脉冲喷射喷头，采用 1MHz 兆声波高频清洗方案，和传统浸泡式超声波不一样，依靠流动纯水携带超声波冲击工件表面，专门解决半导体、光学行业超精细粉尘清洗难题。

产品型号：W-357-1MPG
厂商性质：代理商
更新时间：2026-06-01
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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

日本本多honda 流水式超声波清洗机

1、设备整套构成：发振器主机 + 脉冲清洗喷头全套

整套出厂配齐数字发振主机、标准脉冲喷头、5 米连接控制线、适配电源线、密封接头配件，到手仅需接入纯水管道、接通电源即可投入使用，不用额外搭配配件。1.1 1MHz 恒定功率发振主机主机是整套设备的控制核心，搭载本多自研数字恒功率控制系统，额定输出 40W，功率区间 0~40W 无级可调，适配不同精密工件的清洗力度需求。内部自带智能频率追踪算法，会自动补偿水温、环境温度变化带来的频率偏移，不管长时间连续运行还是车间温湿度波动，超声波输出功率始终稳定，不会出现清洗力度忽大忽小的问题。机身正面液晶显示屏，实时显示当前输出功率、设备运行状态、故障报警代码，操作按键简洁，新手也能快速调试；机身背部配备 RS422A 通讯接口、4-20mA 模拟信号输出，可和工厂自动化设备、上位机联动，实现产线自动启停、运行数据采集。

主机适配宽电压 AC100V~240V，国内车间直接通电不用变压器；整机尺寸 180×250×100mm，重量 2.2kg，放置在设备机柜、工作台都不占空间，工作环境适配 5~40℃无尘车间。

2、核心工作原理

区别于传统槽浸式超声波清洗，W-357-1MPG 属于流水脉冲喷射式清洗：去离子纯水持续通入喷头内部，压电振子产生 1MHz 高频兆声波，将超声波振动传导进流动水流；水流喷出时携带高强度超声空化冲击力，瞬间剥离工件表面 0.1μm 级亚微米粉尘、抛光残留、光刻胶碎屑。同时流动的纯水会立刻带走剥离下来的微小颗粒，脏污不会悬浮在清洗介质内，从根源杜绝颗粒二次吸附在工件表面，清洗洁净度远高于浸泡机型，尤其适合超薄、高精密、高洁净要求的工件。

完整型号：W-357-1MPG（发振主机 + 标准脉冲喷头整套）
振荡频率：1MHz（兆声波高频）
发振主机额定输出：40W，可调范围 0~40W
主机供电：AC100~240V 单相 50/60Hz，300VA
主机外形尺寸：180×250×100mm，重量 2.2kg
喷头尺寸：Φ25×78mm，出水口 φ4mm
标准供水流量：0.9L/min（L 型接头）
适配清洗液体：20~50℃去离子水、弱碱性清洗药液
喷头接触液材质：PP、PCTFE、PTFE（无金属析出）
通讯功能：RS422A 通讯、4-20mA 模拟信号输出
工作环境：环境温度 5~40℃，湿度 10%~85% 无凝露

日本本多honda 流水式超声波清洗机

3、九大核心产品特点

原厂成套出货，发振器 + 喷头整套配齐，到手即装即用，省去单独匹配主机、喷头的调试成本；
1MHz 兆声波高频方案，空化冲击力柔和，清洗硅晶圆、硬盘磁头、光学镜片不会产生划痕，低损伤清洗；
数字恒定功率控制，自动温补频率，全天不间断产线运行，超声输出稳定无衰减；
流水喷射清洗结构，实时带走剥离微颗粒，杜绝粉尘二次附着，亚微米污染物去除效果优异；
喷头全非金属耐腐蚀材质，无金属离子析出，满足半导体无尘车间超高洁净生产标准；
0~40W 功率无级调节，软质光学镜片、硬质硅晶圆都能匹配对应清洗力度，适配多种工件；
完备工业通讯接口，RS422A+4-20mA 信号输出，无缝对接自动化产线 PLC，实现全自动无人清洗；
喷头体积迷你，安装灵活，可嵌入单片晶圆清洗机、光学镀膜前置清洗工位，改造现有产线成本低；
整机维护简单，更换同规格喷头无需重新校准主机，日常仅需定期更换进水过滤芯，售后维护省心。

4、主流适用行业 & 工件

半导体行业：硅片、蓝宝石衬底、砷化镓晶圆、CMP 抛光后残屑清洗、光刻工序后微粒去除；
存储硬盘行业：HDD 磁盘盘片、读写磁头精密清洗；
光学光电行业：AR/VR 光学镜片、激光透镜、光学掩模版、玻璃盖板镀膜前清洗；
精密电子行业：微型 PCB、芯片载具、传感器精密元件、微型端子油污粉尘清洗；
实验室科研：精密石英器皿、光学样品、半导体实验样片超净清洗。

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1、设备整套构成：发振器主机 + 脉冲清洗喷头全套

2、核心工作原理

3、九大核心产品特点

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