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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION日本堀场 HORIBA CMP 浆料粒度分析系统日本堀场 HORIBA CMP 浆料粒度分析系统
整套系统由3个主机组成，可分开摆放或并排布置。CENTRIFUGE 主机带高速离心腔体；LA-960V2 配备大容量样品循环池；SZ-100V2 为小型台式机，集成样品台与触控屏。流体管路接头采用 PFA 材质，样品池透光窗口为高纯度光学玻璃。各设备自带独立的样品进样模块，可单独运行，也可搭配使用，满足不同粒度测试需求。配套自动进样组件可选配。
Partica CENTRIFUGE 基于离心沉降原理，测量区间 10nm~40μm，能够区分纳米磨料微小尺寸差异，识别颗粒表面包覆层变化，捕捉少量团聚异物，适合精细化浆料研发。Partica LA-960V2 激光衍射粒度仪，测量范围 10nm~5mm，大容量样品池支持原液直接测试，快速检出微米级粗大颗粒，用于来料入库筛查，快速判定浆料是否存在易造成晶圆划痕的大颗粒。nanoPartica SZ-100V2，样品用量仅 100μL，同时测试纳米粒径与 Zeta 电位，评估浆料带电特性，还可分析 CMP 清洗后残留在晶圆表面的微量颗粒。三台设备互补，形成完整粒度质控方案，兼顾纳米精细表征与微米杂质筛查。
设备外壳防静电烤漆钢板；离心腔体高强度合金；光学窗口光学玻璃；接触液体管路、样品池 PFA 材质，耐酸碱抛光浆料腐蚀；检测探头耐腐蚀蓝宝石窗口。
表格
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 型号 | CENTRIFUGE / LA-960V2 / SZ-100V2 |
| 原理 | 离心沉降 / 激光衍射 / DLS + 电泳光散射 |
| 测量范围 | CENTRIFUGE：10nm~40μm；LA-960V2：10nm~5mm；SZ-100V2：纳米级粒径 |
| 样品形态 | 原液浆料，支持高固含样品 |
| 样品量 | SZ-100V2 100μL |
Partica CENTRIFUGE；Partica LA-960V2；nanoPartica SZ-100V2。
半导体 CMP 抛光浆料配方开发、来料品质检验；二氧化硅、氧化铝磨料粒度分布检测；识别浆料团聚、粗大杂质颗粒；评估抛光后清洗工序残留颗粒；也适用于粉体、涂料、医药等行业粒度表征。
三台设备独立防震木箱包装，光学元件、样品池、管路配件单独泡沫盒分装。木箱标注精密仪器，防潮防倾倒。校准标样、说明书、软件 U 盘单独收纳。
设备放置在恒温、低振动实验室。分别安装主机、循环池、管路，连接电源。开机预热稳定光源。LA-960V2 测试前使用去离子水清洗循环管路，加入待测浆料进行粒度扫描。CENTRIFUGE 需要设置离心转速与测试时长，完成沉降法粒度分析。SZ-100V2 装入微量样品，启动测试获取粒径与电位。测试结束，清洗所有接触浆料的管路与样品腔，防止颗粒沉积堵塞。定期使用标准颗粒进行校准。
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