欢迎来到津越工业设备(武汉)有限公司！
18771980172欢迎来到津越工业设备(武汉)有限公司！
18771980172
产品分类 / PRODUCT
相关文章 / ARTICLE
2026-09-14
2026-08-26
2026-08-20
2026-08-12
2026-08-06
产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION大塚電子 Otsuka Zeta 电位粒径测试仪 大塚電子 Otsuka Zeta 电位粒径测试仪
设备主体为立式一体化主机，搭配触控操作面板；样品池组件为独立可拆卸模块。细节可见光纤光路组件、精密温控腔体、电极夹持座；可选滴定单元外置安装，管路接头为耐化学 PFA 材质。样品池分一次性塑料池与可重复使用石英池两类，方便不同浓度、不同化学体系样品切换，减少交叉污染。整机结构紧凑，实验室台面摆放，无需额外大型配套工装。
仪器采用动态光散射法测量粒径，激光多普勒电泳光散射测试 Zeta 电位，内置森 - 冈本公式自动校正电渗流干扰，消除样品池壁吸附造成的数据偏移。粒径测量范围 0.6nm～10μm，Zeta 迁移率区间 - 2×10⁻⁵～+2×10⁻⁵ cm²/V・s。支持高浓度样品直接检测，粒径测试浓度 0.1ppm~40%，Zeta 电位 0.001~40%。温控范围 0~90℃，可模拟浆料不同温度工况，评估胶体热稳定性。选配 ELSZ-PT 滴定模块，自动 pH 扫描，快速测定浆料等电点，判断分散体系稳定区间。可直接测试硅片等固体试样表面 Zeta 电位，解析 CMP 磨料颗粒与晶圆表面相互作用。
主机外壳为防静电喷涂铝合金；光路腔体采用低膨胀合金，减少温度漂移对激光光路影响；电极选用铂电极，耐腐蚀、电化学稳定性强；样品池石英材质透光性高，耐酸碱；流体接触配件采用 PFA，抵抗各类浆料、酸碱添加剂腐蚀。
表格
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 型号 | ELSZneoSE |
| 测试原理 | DLS 动态光散射 + 电泳光散射 |
| 粒径范围 | 0.6nm～10μm |
| Zeta 迁移率 | -2×10⁻⁵～+2×10⁻⁵ cm²/V·s |
| 样品浓度 | 粒径：0.1ppm~40%；Zeta：0.001~40% |
| 温控范围 | 0~90℃ |
| 可选配件 | ELSZ-PH 自动 pH 滴定单元 |
基础款：ELSZneoSE；选配模块：ELSZ-PT 自动滴定单元。
主要面向半导体 CMP 浆料研发、来料品质检验；用于二氧化硅、氧化铝抛光磨料分散稳定性评估；测定浆料等电点，优化研磨液配方；测试硅片表面 Zeta 电位，分析抛光后颗粒吸附、晶圆划伤潜在风险；也可用于化学、材料、生物医药胶体体系物性检测。
整机采用防震实木木箱包装，内部填充高密度防静电泡沫；光学组件、电极、样品池独立分盒，防止运输震动损伤光路。配套光盘、纸质说明书、校准标样单独收纳。外包装标注精密仪器、向上、防潮标识。
放置于恒温、防尘实验室台面，水平安装，避开阳光直射与振动源。开机预热 30 分钟稳定激光光源。清洁样品池，装入待测 CMP 浆料，放置于温控腔体内，设置测试温度。软件一键启动测量，自动采集粒径与 Zeta 电位数据。测试完成取出样品池，使用去离子水冲洗，干燥存放。高浓度浆料测试后务必清洗电极，防止颗粒附着。定期使用标准乳胶颗粒标样校准光路。
拿起手机扫一扫Copyright © 2026津越工业设备(武汉)有限公司 All Rights Reserved 备案号：鄂ICP备2026021557号-1
技术支持：化工仪器网 管理登录 sitemap.xml
我的位置：
产品型号：
留言询价
上一篇：
地址：湖北省武汉市东湖新技术开发区光谷大道特1号国际企业中心三期3栋3层07号F394
邮箱：18771980172@163.com
联系人：李经理
返回顶部