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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION日本techvision半导体光学紫外线臭氧清洗机日本techvision半导体光学紫外线臭氧清洗机
整机为台式箱体结构,采用抽屉式样品载台,取放样品便捷。内部搭载高密度网格低压汞 UV 灯组,工件放置于载台送入腔体。前面板配备操作按键与定时显示屏,可设定照射时长;腔体带有安全门联锁结构。设备侧面预留排气接口,可外接管路或臭氧分解器。整机尺寸小巧,直接放置在洁净工作台或实验台使用,适配半导体实验室、光学车间。
产品性能设备采用 184.9nm、253.7nm 双波段紫外光源,网格灯保障照射面均匀。206mm×206mm 有效照射面积,支持单面、双面处理。常温常压干式清洗,不使用化学药液,不会损伤光学膜层、硅片基材。定时控制,到达时间自动停止紫外输出;舱门开启自动熄灯,保障安全。可分解表面油脂、残胶、有机污染物,同时完成表面改性,降低接触角,提升镀膜、粘接、印刷附着力。运行稳定,震动低,适合精密零部件处理。
用材箱体采用冷轧钢板喷涂外壳,耐腐蚀。光源为低压网格汞灯,石英透光窗口。样品载台使用铝合金,表面阳极处理,可放置晶圆、光学基板。腔体内部采用耐紫外材质,降低长期紫外老化。内部控制电路板带防护涂层;电气元器件选用工业级器件,适配洁净车间环境。
参数表
表格
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 型号 | UV-208 紫外线臭氧清洗装置 |
| 光源 | 高密度网格低压汞灯,184.9nm、253.7nm 双波长 |
| 有效照射区域 | 206mm × 206mm |
| 整机尺寸 | W385 × D480 × H270 mm |
| 整机重量 | 约 28kg |
| 电源 | AC100V 5A,50/60Hz,支持电压定制 |
| 控制方式 | 照射时间定时控制 |
| 安全结构 | 舱门联锁保护,开门 UV 熄灭 |
| 处理方式 | 单面 / 双面清洗可选 |
| 标配 | 主机、样品载台、操作手册、出厂检验证书 |
型号UV-208 为本基础机型;同系列还有 UV-312,照射面积更大。臭氧催化分解器、定制工件夹具属于选配部件。主机仅可去除有机污染物,无机颗粒无法清除。
用途半导体晶圆、光掩膜有机污染物清洗;光学镜片、玻璃基板、ITO 基板表面清洗;MEMS、OLED 元件表面改性;树脂基材亲水化处理;提升镀膜、粘接、印刷、焊料附着性能;精密零部件研发、来料预处理。
包装定制加固出口木箱,主机泡沫包裹防护,UV 灯组件单独防震包装,载台配件分格存放。箱内附带原厂检验证书、电气与操作手册,适合远洋运输,开箱检查灯管与腔体有无磕碰。
使用说明设备放置于通风环境,连接排气管路。放置工件在载台,关闭抽屉,设置照射时间,启动设备。处理完成设备自动停止,等待臭氧排出后打开舱门取出工件。定期清洁腔体与灯管表面污渍;UV 灯有使用寿命,按周期更换。设备运行期间避免直接目视紫外光,臭氧需妥善排出,防止人员吸入。
售后服务我司提供到货开箱验收,协助就位、排气管路安装、操作培训。原厂质保期内,非人为损坏故障提供维修;UV 灯管、密封件等耗材配件可单独订货。可提供工艺方案咨询,协助匹配半导体、光学元件清洗试验流程
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