描述：日本orangescience真空等离子处理器清洗，面向半导体材料、PDMS 微流控芯片清洗改性。采用 40KHz 低温射频放电，样品处理温度≤60℃，不会造成 PDMS 形变与薄膜损伤。透明石英腔体，内置无油干式真空泵，标配氧气、氩气两路工艺气，可扩展氮气。支持 10 组工艺程序存储，实现有机污染物去除、PDMS 亲水化、PDMS 与玻璃键合。适合高校微纳实验室、半导体研发、生物微流控试制

产品型号：SP-0400
厂商性质：代理商
更新时间：2026-10-19
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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

日本orangescience真空等离子处理器清洗日本orangescience真空等离子处理器清洗

产品细节图：实拍整机台式机身，上方搭载透明石英真空腔体，腔体顶盖可向上开启，方便取放硅片、PDMS 样品。设备正面配备液晶操作面板、功能按键、气源阀门与真空状态指示灯；机身侧面预留工艺气体进气口、排气口、电源接口。细节素材包含整机外观、石英腔体内部、样品载台、气路组件、操作面板多角度实拍。腔体可视设计，可直观观察等离子放电状态，气路布局简洁，便于在洁净实验室台面放置、巡检与样品更换。

产品性能：SP-0400 为桌面型低温真空等离子处理设备，采用 40KHz 射频电源，低温等离子工艺，样品温度控制在 60℃以内，可保护 PDMS、光刻胶、薄膜等热敏样品，避免高温变形或烧蚀。设备闭环真空控制，稳定维持 5–15Pa 工作真空；标配 O₂、Ar 两路工艺进气，可拓展 N₂第三路气源。内置干式无油真空泵，无油污染，满足半导体、微流控洁净实验要求。支持 1–999 秒处理时间设定，PLC 数字控制，可保存 10 套自定义等离子工艺，一键调用，批次处理重复性稳定。等离子体可有效剥离基底表面微量有机杂质，完成 PDMS 表面亲水化改性，实现 PDMS 与玻璃不可逆键合，同时可对硅片、ITO 导电玻璃做表面活化，提升粘接性能。整机运行噪音低，腔体放电均匀，适合小批量样品研发试制。

用材：设备机架采用加厚冷轧钢板喷涂，防锈抗形变，适配洁净实验室环境。处理腔体选用高透石英材质，耐高温等离子轰击，方便观察放电现象；腔体密封件采用耐等离子腐蚀氟橡胶，长时间使用不易老化漏气。内部气路管路选用 SUS 不锈钢管材，减少气体吸附污染。射频电源、真空压力传感器、PLC 控制模块均为原厂配套精密元器件，电控采用屏蔽线缆，降低电磁干扰。内置干式真空泵无油结构，避免油气回流污染样品腔；样品载台采用抛光铝合金，耐等离子刻蚀，方便拆装清洁。

参数表型号：SP-0400放电频率：40KHz 低温射频腔体容积：5L 石英腔体，兼容 4 英寸硅片工作真空度：5~15Pa 闭环自动维持工艺气源：标配 O₂、Ar 两路，可选 N₂拓展处理定时：1–999s 数字设定样品最高温度：≤60℃程序存储：10 组自定义工艺真空系统：内置无油干式真空泵供电：AC220V，50/60Hz外形尺寸：W480×H380×D520mm整机重量：约 42kg

型号：SP-0400，日本 orangescience 台式真空等离子处理器，属于实验室小型低温等离子清洗机型，区别于工业连续式等离子设备，专门面向 PDMS 微流控、半导体材料研发小样品精密清洗和表面改性。

用途：主要用于 PDMS 微流控芯片清洗、表面亲水化处理，实现 PDMS 与玻璃键合；半导体研发领域硅片、氧化硅基底光刻胶残胶、微量有机污染物无损清洗；ITO/FTO 导电玻璃表面活化，提升薄膜附着力。可用于高校微纳加工实验室、生物医学工程实验室、半导体材料研发中心，也可用于高分子材料表面活化、提升粘接性能，支持软光刻、微纳试样前处理、芯片试制等科研试验。

包装：整机采用出口实木木箱封装，箱内高密度防震泡沫包裹主机、石英腔体，隔离防护，避免运输震动磕碰。样品载台、气管、密封垫圈、电源线、操作手册、出厂检验报告单独分盒存放。木箱标注重心、防潮、向上储运标识，满足国内陆运防护，到货后对照装箱清单逐项清点配件。

使用说明：设备放置于洁净平稳实验台面，接入电源与工艺气瓶管路，完成气路检漏。打开腔体顶盖放入样品，闭合腔体，在操作面板设置真空参数、气体流量、处理时长，调用预设工艺程序。设备自动抽真空，达到设定真空度后起辉产生等离子，完成样品清洗与表面改性。处理结束后自动停止放电，腔体破真空，开盖取出样品。日常使用定期清洁腔体内部，检查氟橡胶密封圈老化状态，按需更换；定期校验真空压力，维护真空泵，防止管路积碳污染腔体。

售后服务：我司提供到货开箱验收指导，上门安装调试、现场人员操作培训。原厂质保周期内非人为损坏故障提供免费维修，远程在线排查真空、射频、气路故障，协助客户调试 PDMS 键合、半导体清洗工艺。腔体密封圈、真空泵耗材等配件可配套供应，终身备件询价更换，支持气路拓展方案咨询。

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