描述：日本SAMCO UV-1紫外臭氧清洗机晶圆表面处理该款台式紫外光臭氧清洗设备，常压干式工艺，搭配 UV 光源、臭氧生成与加热载台，用于半导体基板有机污染物去除、光刻胶灰化、表面活化改性，无需真空，适合实验室研发试样前处理。

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更新时间：2026-10-23
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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

日本SAMCO UV-1紫外臭氧清洗机晶圆表面处理日本SAMCO UV-1紫外臭氧清洗机晶圆表面处理

该款台式紫外光臭氧清洗设备，常压干式工艺，搭配 UV 光源、臭氧生成与加热载台，用于半导体基板有机污染物去除、光刻胶灰化、表面活化改性，无需真空，适合实验室研发试样前处理。

产品介绍我司供应日本 SAMCO 莎姆克 UV-1 紫外光臭氧清洗机，为紧凑型桌面式干式表面处理设备，广泛用于半导体、光学器件研发实验室的基板前处理工序，整套设备在常压环境运行，无需配套真空机组，设备布局精简，放置占用空间小。产品性能方面，设备搭载双波长低压汞灯，同时输出 185nm、254nm 紫外光，配合内置臭氧发生单元与温控加热载台，三者协同作用分解基板表面有机杂质。载台支持温度调控，升温可提升有机物质分解速率，工艺重复性稳定。清洗过程无离子轰击，不会对器件、薄膜造成电性损伤，适合敏感薄膜、化合物半导体试样。腔体设置上盖安全联锁，开盖状态设备无法启动紫外与臭氧流程，配备催化式臭氧分解装置，废气臭氧分解后再排出，配套氮气吹扫循环、急停开关、加热回路保险丝多重防护，降低使用风险。面板配置工艺计时模块，可自由设定处理时长，一键启动自动流程，操作门槛低。用材上，腔体内部采用耐臭氧腐蚀材质，长期接触臭氧不易老化析出；载台基材经过平整化、耐腐蚀处理，基板放置平稳，温度分布均匀；紫外灯管采用特制石英管壁，保证紫外透射效率；管路、密封件选用耐氧化氟系材质，减少老化漏气问题。整机框架刚性稳定，适合洁净实验室长期连续使用。

核心参数表

项目	规格
型号	UV-1
处理方式	紫外 + 臭氧 + 载台加热，常压干式处理
最大基板尺寸	Φ100mm（4 英寸晶圆）
紫外波长	185nm、254nm
载台	可控温加热载台
安全配置	舱盖联锁、臭氧分解器、N₂吹扫、急停
运行环境	常压，无需真空系统
机型样式	台式紧凑型
供电	AC100V 50/60Hz

用途上，用于硅晶圆、SiC、GaN、GaAs 化合物半导体、蓝宝石、石英、光学玻璃基板有机污染物去除；光刻胶灰化、残胶去除；基板表面活化、亲水改性，提升镀膜、键合附着力；引线框架、MEMS 芯片、AFM 探针、SPR 芯片清洗预处理。包装采用定制防震熏蒸木箱，主机、控制配件、管路套件、操作手册、备件清单独立缓冲防护，适配洁净设备长途运输。使用说明：设备安置于洁净通风操作台，外接排气管路；放置基板后闭合舱盖，设置工艺时间与载台温度，启动流程；运行阶段不要开启舱门；定期检查臭氧分解耗材、紫外灯管状态；实验结束执行氮气吹扫，再取出样品。售后服务：到货协助设备安装、排气对接、工艺调试与人员操作培训；原厂标准质保，紫外灯管、催化分解模块属于消耗件，支持单独采购；配套半导体清洗工艺技术咨询。

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