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日本Elionix 超高分辨率 SEM 专用镀膜仪

描述:日本Elionix 超高分辨率 SEM 专用镀膜仪
核心采用氩离子束溅射技术,可制备纳米级超微粒钨膜,满足 70 万倍以上高倍率 SEM 观测需求。设备低温涂层设计,样品热损伤小;绕镀性优异,复杂形貌及狭缝区域可均匀镀膜;镀膜周期短、膜层附着力强、不易产生污染,适配各类对表面形貌要求严苛的样品,是高分辨率 SEM 样品前处理的关键设备。

  • 产品型号:ESC-101
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2026-06-15
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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

日本Elionix 超高分辨率 SEM 专用镀膜仪

产品概述
ESC-101 为 Elionix 自主研发的高性能离子束溅射镀膜设备,聚焦高分辨率 SEM 样品的纳米级导电涂层制备。区别于传统溅射仪,其采用空心阳极离子枪 + 磁控管离子枪复合设计,产生高密度、高能量氩离子束,精准轰击靶材形成超细微粒涂层,兼顾膜层质量样品保护性,广泛应用于科研与工业领域的高分辨率微观表征。
核心结构与设计
  1. 复合离子枪系统
    • 融合空心阳极与磁控管离子枪优势,产生高密度、高能量 Ar 离子束

    • 离子束能量与密度精准可控,适配不同样品与镀膜需求。

  2. 纳米级钨膜沉积
    • 标配高纯钨靶,可沉积粒径 0.2–0.5nm的超微粒钨膜;

    • 膜层均匀致密,70 万倍 SEM 观察无颗粒感,不掩盖样品微观细节。

  3. 低温涂层腔体
    • 镀膜过程中样品表面温度≤50℃,热损伤极低;

    • 适配生物样品、高分子材料、热敏电子元件等易损样品。

  4. 高效真空与短周期设计
    • 快速抽真空系统,真空度达 1Pa 后,3–5 分钟完成镀膜

    • 腔体结构优化,真空稳定性好,批次处理效率高。

  5. 优异绕镀与附着力设计
    • 离子束溅射方向性与散射性平衡,狭缝、深孔、复杂形貌均可均匀镀膜

    • 膜层与样品表面附着力强,不易脱落,适配高倍率观测及长时间电子束照射。

  6. 低污染膜层特性
    • 镀膜过程无有机污染,膜层不易吸附杂质,保障 SEM 观察清晰度;

    • 腔体易清洁,维护便捷,长期使用稳定性高。

日本Elionix 超高分辨率 SEM 专用镀膜仪
核心功能
  • 高分辨率导电涂层:制备纳米级钨导电膜,消除 SEM 观察时的荷电效应;

  • 多材质适配镀膜:标配钨靶,可按需更换金、铂、碳等靶材,适配不同样品;

  • 低损伤表面处理:低温工艺,保护热敏、软质、生物样品的原始形貌;

  • 复杂样品均匀镀膜:优异绕镀性,适配三维结构、多孔材料、微小器件;

  • SEM 观测优化:膜层极薄且均匀,不掩盖样品微观特征,适配超高倍率观测。

产品优势
  • 超高分辨率适配:纳米级钨膜,70 万倍 SEM 无颗粒感,优先传统镀膜设备;

  • 极低热损伤:全程低温涂层,热敏样品友好,适用范围广;

  • 高效便捷:短周期镀膜,操作简单,新手易上手;

  • 日本原装品质:核心部件自研,离子枪寿命长,长期稳定性强;

  • 应用场景广:覆盖半导体、生物、材料、电子等多领域高分辨率表征。

应用场景
  • 半导体 / 微电子:晶圆、芯片、微纳结构的高分辨率 SEM 导电涂层;

  • 生物医学:细胞、组织、生物大分子的微观形貌观察镀膜;

  • 材料科学:高分子、陶瓷、复合材料、多孔材料的低损伤镀膜;

  • 精密制造:微小零件、MEMS 器件、光学元件的表面导电处理;

  • 纳米技术:纳米材料、二维材料、超薄膜的 SEM 观测前处理。

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