欢迎来到津越工业设备(武汉)有限公司！
18771980172欢迎来到津越工业设备(武汉)有限公司！
18771980172
产品分类 / PRODUCT
相关文章 / ARTICLE
2026-06-09
2026-07-02
2026-07-14
2026-08-05
2026-06-03
产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION日本lintec 半导体前驱体液相汽化装置
型号：VU‑430
汽化方式：双流体喷嘴雾化，辐射受热汽化
最高使用温度：200℃
最大汽化能力：TEOS 10g/min，水 1.0g/min
载气流量区间：0.05‑4SLM
阀门驱动：电磁驱动常闭阀，阀体靠近汽化腔布置
控温构造：腔体侧面、底部双段独立 PID 控温，配备 2 支 K 型热电偶
过热保护：内置热保护开关，超温自动切断加热
接液材质：SUS316L，Au 金密封，耐腐蚀性良好
耐压规格：1MPa (G)，氦检漏指标优异
管路接口：VCR 标准接头，适配半导体工艺管路
机身形式：紧凑型壁挂立式整机
整机重量：2.2kg
供电规格：区分 120V、240V 功率版本
标配配件：VU‑430 主机、热电偶接头、连接线缆、操作说明书
选配配件：配套液体质量流量计、工艺适配密封件、溯源校准证书
双流体喷嘴雾化，液体被打散为微小液滴，汽化充分，减少液滴直接带入后端工艺腔的隐患，气相输出稳定。
控制阀就近布置在汽化腔前端，缩短液体在高温管路当中停留时间，适合容易受热变质分解的前驱物料。
双段独立温控结构，腔体侧面与底部温度分开调节，针对不同化学物料灵活匹配工艺条件。
金密封搭配耐腐蚀接液材质，适配各类有机金属、低蒸气压工艺液体，抗物料腐蚀性能强。
可与对应液体质量流量计联动，接收流量信号实时调节阀门，实现汽化量闭环管控。
整机体积小巧，支持壁挂安装，节省设备安放空间，便于集成接入 CVD、ALD 工艺系统。
完备过热安全防护，热开关触发后切断加热，规避设备超温运行风险，提升工艺安全性。
拆装维护便捷，喷嘴、腔体可拆解清理，降低物料残留带来的交叉污染，适合多配方试样交替试验。
半导体工艺，CVD、ALD 薄膜沉积前驱液体汽化供给。
低 k、高 k 介电材料工艺开发，各类有机金属前驱体汽化处理。
科研实验室，TEOS、水汽等工艺液体汽化试验。
新材料研发，薄膜配方调试，不同前驱物料汽化工艺摸索。
光电行业薄膜制备设备配套，作为工艺气相供给单元。
高校科研院所，半导体材料相关课题汽化工艺实验。
设备集成厂商，小型薄膜沉积系统配套汽化模块。
需要双流体雾化方式完成低蒸气压液体稳定汽化的工艺项目。
拿起手机扫一扫Copyright © 2026津越工业设备(武汉)有限公司 All Rights Reserved 备案号：鄂ICP备2026021557号-1
技术支持：化工仪器网 管理登录 sitemap.xml
我的位置：
产品型号：
留言询价
上一篇：
地址：湖北省武汉市东湖新技术开发区光谷大道特1号国际企业中心三期3栋3层07号F394
邮箱：18771980172@163.com
联系人：李经理
返回顶部