测量装置-津越工业设备(武汉)有限公司

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外观分析设备

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2026-07-06

日本本多HONDA W-357-1MQG-SKC 高频石英振动体超声波清洗机简介

2026-06-10

日本HORIBA堀场 HP-300 在线 PH密度监测仪简介

2026-06-05

日本新宇宙cosmos XP-329M 迷你气味传感器产品介绍

2026-06-01

美国 DeFelsko 狄夫斯高 PosiTector® GLS 漆面塑胶表面光泽度仪简介

2026-07-11

NS-K100日本NANOSEEDS 粉体摩擦带电量测量装置日本NANOSEEDS 粉体摩擦带电量测量装置本设备为日本 NANOSEEDS 纳诺希兹 NS-K100 粉体摩擦带电量测量装置，依托高精度法拉第笼检测原理，模拟粉体搅拌输送过程摩擦工况，定量测定粉体自身、粉体与容器摩擦产生静电带电量。整机集成自动搅拌机构、内置称重单元与法拉第收集腔体，整套流程自动化运行；可自由设定搅拌速度、搅拌时长、旋转倾倒加速度等试验条件，贴近粉体实际生产工况。

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更新日期
2026-07-24

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22
NH-3SPs日本MITAKA 非接触三维形状测量机日本MITAKA 非接触三维形状测量机本设备为日本 MITAKA 三鹰光器 NH-3SPs 点自动对焦式非接触三维形状测量机，依靠光学自动对焦探针扫描获取样品三维坐标，全程无探针接触，避免划伤镜面与精密工件。搭载高精度电动三轴位移平台，纵向具备纳米级分辨能力，可适配透明光学元件、金属模具、薄膜、微结构晶圆等试样。

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更新日期
2026-07-22

02
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32
TMS-2000日本SANTEC 晶圆厚度分布测绘测量系统日本SANTEC 晶圆厚度分布测绘测量系统本设备为日本 SANTEC 圣德科 TMS-2000 OCT 干涉式晶圆厚度分布测绘系统，采用高速可调谐扫频激光干涉检测原理，全程非接触无损测量，重复测量精度可达 1nm，可完整测绘整片晶圆全局、局部、边缘厚度与平整度数据。设备抗温变、抗机械震动硬件架构，普通设备受环境扰动精度漂移的问题得到解决，适配洁净实验室与产线在线检测两种工况。

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更新日期
2026-07-20

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厂商性质
代理商

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32
MCR-1000日本EYELA 柱型连续流动反应装置日本EYELA 柱型连续流动反应装置本设备为日本 EYELA 东京理化MCR-1000入门级柱型连续流动反应装置，面向高校、药企、新材料实验室连续流合成、催化剂快速筛选开发，依靠恒温铝块 PID 精准控温，搭配可快速拆装不锈钢 / 玻璃反应柱，适配液相、气液两相连续反应体系。

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更新日期
2026-07-17

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47
EA02日本u-tc 吸入式微量粉体电荷量测量装置日本u-tc 吸入式微量粉体电荷量测量装置本设备为日本 u-tc 优泰克 EA02 负压吸入式粉体电荷量测量装置，采用负压抽吸 + 胶囊过滤捕获粉体，静电感应传感定量读取粉末带电数值，覆盖皮库至微库六数量级宽量程，专门针对粉末涂料、药用粉体、复印显影粉、无机填料等干燥粉体开展静电性能研发与产线质控。

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更新日期
2026-07-16

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厂商性质
代理商

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浏览量
51

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