欢迎来到津越工业设备(武汉)有限公司

18771980172

产品展示/ PRODUCTS PLAY

我的位置:首页  >  产品展示  >  外观分析设备  >  汽化器
  • EV‑2000日本hiranuma 固体样品水分汽化装置
    EV‑2000日本hiranuma 固体样品水分汽化装置 日本hiranuma 固体样品水分汽化装置 EV‑2000 属于卡尔费休水分仪配套加热汽化炉,专门解决固体、粉体样品无法直接溶解于卡氏试剂的测试难题,不把样品投入滴定液,依靠加热把样品内部水分汽化,再由载气带入卡氏主机完成定量分析。区别于直接进样滴定,能够规避样品溶解差、基体与卡氏试剂发生副反应带来的结果失真。支持三段程序升温,可匹配不同物料热稳定性,既可以同品牌卡氏主机整机联动。
    01

    更新日期

    2026-08-17
    02

    厂商性质

    代理商
    03

    浏览量

    148
  • VU‑430日本lintec 半导体前驱体液相汽化装置
    VU‑430日本lintec 半导体前驱体液相汽化装置 日本lintec 半导体前驱体液相汽化装置 配备双流体喷嘴的高效汽化器,依靠双流体雾化结构将液态前驱物料破碎成微细雾滴,雾滴进入汽化腔依靠辐射受热完成汽化,输出稳定均匀工艺气相。阀体紧邻汽化腔体布置,缩短液体高温滞留路径,降低热敏物料热分解、聚合风险。汽化腔采用分段独立控温构造,可针对不同物料特性调节温度条件,整机结构小巧,支持壁挂安装。
    01

    更新日期

    2026-08-13
    02

    厂商性质

    代理商
    03

    浏览量

    82
  • VU-430日本LINTEC 双流体喷嘴高效汽化器
    VU-430日本LINTEC 双流体喷嘴高效汽化器 日本LINTEC 双流体喷嘴高效汽化器 本设备为日本 LINTEC 琳得科 VU-430 电磁控制阀式高效汽化器,采用双流体雾化喷嘴结构,液体与载气在喷嘴前端混合雾化,微小雾滴进入汽化室充分受热转化为稳定气相,广泛用于半导体 CVD、ALD、薄膜沉积工艺。汽化室搭载分段独立温控结构,可根据物料特性精细调节温度,有效抑制低蒸气压、易热分解前驱原料发生聚合、变质。
    01

    更新日期

    2026-07-22
    02

    厂商性质

    代理商
    03

    浏览量

    129
共 3 条记录,当前 1 / 1 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页 
拿起手机扫一扫
地址:湖北省武汉市东湖新技术开发区光谷大道特1号国际企业中心三期3栋3层07号F394
邮箱:18771980172@163.com
联系人:李经理

Copyright © 2026津越工业设备(武汉)有限公司 All Rights Reserved    备案号:鄂ICP备2026021557号-1

技术支持:化工仪器网    管理登录    sitemap.xml