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美国 ibss GV10x 下游式等离子灰化清洗器

描述:美国 ibss GV10x 下游式等离子灰化清洗器这款下游式等离子源,可在维持腔体真空的前提下完成原位除污。依靠自由基去除碳氢类污染物,离子轰击微弱,对样品损伤低,适配各类电子显微设备腔体,我司可配套提供安装工艺指导。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2026-11-13
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产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

美国 ibss GV10x 下游式等离子灰化清洗器美国 ibss GV10x 下游式等离子灰化清洗器

这款下游式等离子源,可在维持腔体真空的前提下完成原位除污。依靠自由基去除碳氢类污染物,离子轰击微弱,对样品损伤低,适配各类电子显微设备腔体,我司可配套提供安装工艺指导。

产品介绍产品细节图整套设备包含等离子源本体以及控制单元,控制单元分为台式机架款式可选;源体采用不锈钢真空结构,可搭配多种标准真空法兰,满足不同腔体对接需求。控制单元搭载触控交互界面,既可以本地直接操作,也能够通过配套软件和上位机通讯。标配等离子源主体、控制器以及通讯线缆;可选配不同规格真空法兰、供气组件;设备闲置时,需要在法兰位置加装保护环,避免刀口磕碰,破坏密封面。产品性能设备采用远程顺流等离子结构,活性自由基输送至腔体内部,减少高能离子对样品的溅射作用。射频输出功率可以在区间内连续调节,适配不同污染程度的清洗需求;支持多种工艺气体组合,能够适配高真空以及超高真空工况。清洗过程不需要打破腔体真空,不用增设复杂的隔离阀与预抽结构,在去除碳沉积污染时,拥有稳定的去除速率,适合需要长期观测的精密样品。用材源体壳体为不锈钢;内置射频发生组件;绝缘构件为氧化铝陶瓷;法兰为金属刀口密封结构;控制器壳体为喷涂金属板材;管线采用耐腐蚀真空管路。

表格

项目规格
型号GV10x,包含标准款与 P6 超高真空版本
射频功率5–100 W
工作压力<5 mTorr~2 Torr
可选工艺气体氧气混合氩气、氢气混合氩气
控制器BT 台式、2U 机架式
通讯方式配套上位机软件,光电隔离

型号常规 GV10x 适配扫描电镜、聚焦离子束设备等高真空环境;GV10x‑P6 为超高真空版本,面向透射电镜、同步辐射装置。用途扫描电镜、聚焦离子束腔体原位除碳污染;透射电镜样品与腔体清洁;XPS、CD‑SEM 设备维护;同步辐射光学镜片污染物去除,样品灰化处理。

包装定制防震木箱,真空法兰配有独立保护件,附带原厂性能检测资料。使用说明安装操作遵循真空设备规范,保护法兰密封刀口;接入纯度符合要求的工艺气体;设备与精密分析仪器之间做好隔离,防止信号干扰;定期检查气路密封性,避免长时间满功率连续运行。


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