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  • NH-3SPs日本MITAKA 非接触三维形状测量机
    NH-3SPs日本MITAKA 非接触三维形状测量机 日本MITAKA 非接触三维形状测量机 本设备为日本 MITAKA 三鹰光器 NH-3SPs 点自动对焦式非接触三维形状测量机,依靠光学自动对焦探针扫描获取样品三维坐标,全程无探针接触,避免划伤镜面与精密工件。搭载高精度电动三轴位移平台,纵向具备纳米级分辨能力,可适配透明光学元件、金属模具、薄膜、微结构晶圆等试样。
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    更新日期

    2026-07-22
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  • TMS-2000日本SANTEC 晶圆厚度分布测绘测量系统
    TMS-2000日本SANTEC 晶圆厚度分布测绘测量系统 日本SANTEC 晶圆厚度分布测绘测量系统 本设备为日本 SANTEC 圣德科 TMS-2000 OCT 干涉式晶圆厚度分布测绘系统,采用高速可调谐扫频激光干涉检测原理,全程非接触无损测量,重复测量精度可达 1nm,可完整测绘整片晶圆全局、局部、边缘厚度与平整度数据。设备抗温变、抗机械震动硬件架构,普通设备受环境扰动精度漂移的问题得到解决,适配洁净实验室与产线在线检测两种工况。
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    更新日期

    2026-07-20
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  • MCR-1000日本EYELA 柱型连续流动反应装置
    MCR-1000日本EYELA 柱型连续流动反应装置 日本EYELA 柱型连续流动反应装置 本设备为日本 EYELA 东京理化MCR-1000入门级柱型连续流动反应装置,面向高校、药企、新材料实验室连续流合成、催化剂快速筛选开发,依靠恒温铝块 PID 精准控温,搭配可快速拆装不锈钢 / 玻璃反应柱,适配液相、气液两相连续反应体系。
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    更新日期

    2026-07-17
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  • EA02日本u-tc 吸入式微量粉体电荷量测量装置
    EA02日本u-tc 吸入式微量粉体电荷量测量装置 日本u-tc 吸入式微量粉体电荷量测量装置 本设备为日本 u-tc 优泰克 EA02 负压吸入式粉体电荷量测量装置,采用负压抽吸 + 胶囊过滤捕获粉体,静电感应传感定量读取粉末带电数值,覆盖皮库至微库六数量级宽量程,专门针对粉末涂料、药用粉体、复印显影粉、无机填料等干燥粉体开展静电性能研发与产线质控。
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    更新日期

    2026-07-16
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  • AKB-366日本MINAKUCHI NC 数控辊筒专用外径测量机
    AKB-366日本MINAKUCHI NC 数控辊筒专用外径测量机 日本MINAKUCHI NC 数控辊筒专用外径测量机 整机采用高刚性一体铸造床身,搭配耐磨线性滑动导轨,长期车间粉尘工况下测量稳定性强;支持不同长度、直径胶辊通用装夹定位,无需频繁更换工装;自带数控操作面板与本地数据存储,测量曲线、数值可导出归档,适配印刷、涂布、造纸、薄膜加工行业磨辊车间现场质检、来料复检场景。
    01

    更新日期

    2026-07-07
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