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日本HIOS 好握速 HP‑10 扭力测试仪
日本HIOS 好握速 HP‑10 扭力测试仪，用于检测电批、风批、扭力扳手的输出扭矩。可实时显示扭矩峰值、跟踪值，LCD 屏幕读数，支持数据输出。适配电子装配、半导体工装夹具紧固工具校验，定期确认拧紧工具精度，防止过拧、欠拧造成产品不良。体积小巧，台式摆放，产线、实验室都可以使用。
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更新日期
2026-09-15
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厂商性质
代理商
- 03
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DPM2‑ClO‑DP日本共立 数字式游离余氯检测仪
日本共立 数字式游离余氯检测仪，用于水样游离余氯定量检测，配套专用 Pactest 试剂，仪器光电读数，消除人眼比色误差。小巧手持便携，电池供电，LCD 直接输出数字结果，精度优于传统目视比色管。可用于自来水、泳池水、工厂循环冷却水现场检测，无需大型实验室设备，适合现场巡检、设备维护水质管控。
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更新日期
2026-09-15
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厂商性质
代理商
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127
FY‑18L / FY‑18N日本FUNATECH 船越龙 表面检查灯
日本FUNATECH 船越龙 表面检查灯日本 FUNATECH 船越龙 FY‑18 系列高功率 LED 表面检查灯，分为黄光 FY‑18L、白光 FY‑18N 两款机型，用于晶圆、玻璃基板、光学工件表面划痕、灰尘、异物目视检查。无风扇主动散热，可在洁净室使用；支持连续调光，柔性万向臂自由调节照射角度；标配透明、扩散两款可更换滤光片，可选配绿色滤光片。LED 光源寿命约 50000 小时
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更新日期
2026-09-15
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厂商性质
代理商
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168
SDS CMP三菱化学工程MEC‑VALUE浆料供给系统检测
三菱化学工程MEC‑VALUE浆料供给系统检测，半导体 Fab 集中式 CMP 浆料供给成套设备。适配二氧化硅、氧化铈、氧化铝多类型 CMP 浆料；内置防沉降搅拌、自动循环、定期管路自清洗，一套系统向多台 CMP 机台 POU 点稳定供料。整套采用高纯耐蚀过流部件，适配 300mm 晶圆产线，可联动在线监测仪表，实现浆料物性稳定输出，降低批次差异，减少浆料浪费，兼顾量产与 ESG 废液减量需求。
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更新日期
2026-09-15
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代理商
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PD10‑EX日本堀场 PD Xpadion光罩异物检测清除设备
日本堀场 PD Xpadion光罩异物检测清除设备搭载40年激光散射检测核心技术，集成掩模异物检测与颗粒清除双重功能。可精准检测空白光罩、图形掩模、EUV保护膜的微小异物与缺陷，适配光刻工序入厂检验、量产巡检。配套RP-1颗粒清除单元，除尘率超95%，可对接工厂自动化产线，有效规避掩模异物导致的晶圆曝光不良，大幅提升半导体生产良率。
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2026-09-15
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厂商性质
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18771980172
2026-05-24
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